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                        一種提高氮化硅層和氧化層刻蝕選擇比的方法

                      
        
					
        
                        來源：中國粉體技術網    更新時間：2013-11-25 20:43:54    瀏覽次數：
                      
        
                      
        

                        
        

  
        

    

    

	專利名稱：一種提高氮化硅層和氧化層刻蝕選擇比的方法
        

	專利持有人：上海華力微電子有限公司
        

    所屬行業：
        
   
    內容摘要：本發明公開了一種提高氮化硅層和氧化層刻蝕選擇比的方法，應用于具有氮化硅層和氧化層的半導體結構的刻蝕工藝，且氮化硅層覆蓋于氧化層的上表面，方法包括：采用包含有添加劑的磷酸化學液對所述氮化硅層進行刻蝕工藝；其中，添加劑的材質為氮化硅和 或類...        		

  
        


        

        		

                      
        

                      
        

                        

                      
        

					  
        

                            
        

                              
        

                                
        

                                  
        

                                    信息描述

                                  
        

                                
        		

                              
        

							  
        

                            

                          
        

                            
        		

                          
        

                          

                      
        

                        發明人：李芳,劉文燕,黃耀東   
        
申請人：上海華力微電子有限公司 
        
申請號：CN201310082090.9 
        
       本發明公開了一種提高氮化硅層和氧化層刻蝕選擇比的方法，應用于具有氮化硅層和氧化層的半導體結構的刻蝕工藝，且氮化硅層覆蓋于氧化層的上表面，方法包括：采用包含有添加劑的磷酸化學液對所述氮化硅層進行刻蝕工藝；其中，添加劑的材質為氮化硅和/或類氮化硅和/或間接轉化為氮化硅的物質和/或氧化硅和/或類氧化硅和/或間接可以轉化為氧化硅的物質；該方法從化學源頭解決工藝需求，省去進行擋片的工藝步驟，在不減小刻蝕氮化硅速率的同時，有效控制化學液的反應，節約產品制程的時間，進而降低生產成本。
        

        

        

        
http://www.roanjohns.com/uploadfile/2013/1125/20131125084542368.pdf
        

        
        		

                      
        

					  
        

                        

                      
        

					
        

                        
        		

                      
        

                    
        		
                      
        
					  					  
        
					    
					  
        
					  
        
                         
                      
        
					  					  					  
        
                        
        
                          
        
                            
        
                              
        
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						氧化鋅

					  
        
							 

					  
        

						

					  
        
	
					  						 
        

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