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        美國研究團隊開發出硅基芯片上光通信技術
        來源:中國粉體技術網    更新時間:2017-11-23 09:29:41    瀏覽次數:
         
          美國麻省理工學院發布消息稱,該校一個研究團隊開發出一種新材料,可集成在硅基芯片上進行光通信,從而比導線信號傳輸具有更高的速度和更低的能耗。
          這種新材料為二碲化鉬,是近年來引人關注的二維過渡金屬硫化物的一種。這種超薄結構的半導體可以集成在硅基芯片上,并可以在電極作用下發射或接收光信號。傳統上,砷化鎵是良好的光電材料,但很難與硅基材料兼容。此外,傳統的光電材料發出的光信號在可見光頻段,易被硅材料吸收;而二碲化鉬可發射紅外光,不易被硅吸收,因此適合在芯片上進行光通信。
          目前,這一技術處于概念驗證階段,距離實用還有一定距離。研究團隊還在關注其它可集成在硅基芯片上的超薄材料(如黑磷等)在光通信領域的應用。通過改變黑磷材料堆積的層數,可以調節其所發射光信號的波長,從而與目前主流的光通信技術兼容。


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