（中國粉體技術網/班建偉）隨著涂布技術的飛速發展, 對涂布顏料的要求越來越高, 特別是碳酸鈣研磨技術的迅速發展, 這就對碳酸鈣研磨設備和研磨專用分散劑的要求也日益提高。在國內, 涂布級研磨碳酸鈣市場的競爭也促進了涂布顏料質量的提高；首先是10年前的ECC公司和OMYA 公司在國內設廠, 到現在的各大紙廠都上先進的進口設備；近幾年來, 特別是CALLISTO公司的碳酸鈣研磨生產線項目在國內建成, 幫助紙廠的研磨碳酸鈣水平達到了一個新的高度, 使碳酸鈣涂料的質量水平和成本控制成為市場競爭的要點。
對涂布碳酸鈣的粒度要求隨工藝的改進也越來越高, 特別是受歐洲高碳酸鈣配比的配方影響, 涂布級超細碳酸鈣的粒度分布從10年前的小于2μm達90%的要求, 發展到現在市場上經常見到的98級, 甚至99級(即粒度小于2μm的達到98%, 甚至99% 以上); 更是有的廠家, 甚至嘗試全碳酸鈣配比的涂布配方, 這就要求更高品質的研磨碳酸鈣, 要求碳酸鈣的粒徑分布盡量的窄, 小于1μm 達到90%以上；這就需要有更好的碳酸鈣研磨設備和研磨專用分散劑來保證這種超細碳酸鈣涂料質量的穩定性。
1 涂布對碳酸鈣的要求
隨著高速涂布技術的發展, 要求碳酸鈣具有超細的粒徑, 窄的粒度分布曲線, 高的固含量和好的流變性。目前適合高質量涂布要求的碳酸鈣漿料一般控制指標如下: 粒度2μm達到95%以上, 固含量不小于75% , 初始黏度不大于0.250Pas, 回黏度不大于 0.350Pa s(回黏度是指靜置1 h后檢測的黏度, 此數據對涂布的流變性影響很大) , pH = 9.0-9.5。
超細研磨碳酸鈣, 現在一般是通過濕磨的方法,以漿料的形式供涂布廠家使用。特別是碳酸鈣的高白度、低成本、流變性好的優點, 促使各廠紛紛上馬碳酸鈣研磨項目。但真正做好超細碳酸鈣的研磨并不容易。首先, 研磨設備的選擇很重要, 它直接影響最終達到的粒度及粒徑分布, 并且對生產成本也有很大的影響。
分散劑是否合適, 是影響碳酸鈣漿料質量的另一重要因素。因為在如此高要求的固含量和粒度的情況下, 想降低碳酸鈣漿料的黏度, 并且使回黏度不至于過高而影響涂布, 就需要選擇合適的分散劑來達到這種要求。大家都知道, 碳酸鈣顆粒是通過研磨機內的研磨介質, 即陶瓷珠或鋯珠(成本高)高速旋轉碰撞而磨細的, 因此會產生高溫, 散發大量的熱, 這就需要選擇與常規分散劑不同的、適應高溫研磨的分散劑。
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