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        技術(shù)進(jìn)展
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        石英礦雜質(zhì)存在形式及應用要求
        來(lái)源:中國粉體技術(shù)網(wǎng)    更新時(shí)間:2022-10-25 15:38:03    瀏覽次數:
         
         石英礦石一般含有黃鐵礦、磁鐵礦、金紅石、電氣石、赤鐵礦、云母、長(cháng)石等雜質(zhì)礦物。
          
          石英中的雜質(zhì)主要由晶格雜質(zhì)和包裹體兩種形式,晶格雜質(zhì)點(diǎn)缺陷與外來(lái)離子的摻入有關(guān),由于A(yíng)l3+、Fe3+、B3+、Ti4+、Ge4+、P5+離子與Si4+半徑相近,可替代原有的硅離子,Li+、K+、Na+、H+、Fe2+等離子直接進(jìn)入平衡空位引起的電子缺陷,達到電荷中性。
         
        石英礦雜質(zhì)存在形式及應用要求   
          
          石英在生長(cháng)過(guò)程中,可能包含礦化流體和共生礦物,根據包裹的種類(lèi)具體分為流體包裹體、礦物包裹體和熔體包裹體。
          
          流體包裹體中存在水、二氧化碳、甲烷、氮氣等物質(zhì),Na、K、Cl和Ca是主要的雜質(zhì)元素。礦物包裹體中存在氯化物、硅酸鹽、碳酸鹽、硫酸鹽等物質(zhì),Li、Na、K、Ca、Cs、Al、Fe是主要的雜質(zhì)元素。在照明和光纖行業(yè),作為原料的高純石英要求流體夾雜物的含量濃度非常低,因為流體夾雜物在熔化過(guò)程中的易膨脹導致在硅玻璃熔體中產(chǎn)生大量囊泡。整體來(lái)看,相對于包裹體雜質(zhì),晶格雜質(zhì)較難去除,其含量的高低影響著(zhù)高純石英原料的品質(zhì)。
          
          高純石英是根據其雜質(zhì)含量的高低定義,高純石英雜質(zhì)含量為8~50g/g,極高純石英雜質(zhì)含量為1~8g/g,超高純石英雜質(zhì)含量為0.1~1g/g。在產(chǎn)出價(jià)值方面,石英純度越高其附加值越高,生產(chǎn)鏈中石英原料購買(mǎi)價(jià)格為255歐元/t,四氯化硅的價(jià)格為630歐元/t,出售給電子行業(yè)的超純石英價(jià)格為8萬(wàn)歐元/t。
          
          除此之外,美國尤尼明公司對于高純石英也提出了具體標準,總體來(lái)看IOTA-STAND-ARD純度為99.998%,IOTA-4純度為99.999%,K、Li、Na總和為1.4×10-6,IOTA-6純度為99.9991%,K、Li、Na總和為0.5×10-6,IOTA-8純度為99.9992%,K、Li、Na總和為8×10-8。具體應用會(huì )存在其他的附屬標準,燈管和光學(xué)器件需要的石英原料Al濃度低于2×10-5,半導體坩堝Al濃度低于1×10-5,其他金屬小于1×10-7,總雜質(zhì)不超過(guò)1.5×10-5,在微電子器中U和Th濃度低于2×10-9,太陽(yáng)能硅的生產(chǎn)所需原料中P和B濃度應非常低,一般在1×10-6范圍內。
         
        石英礦雜質(zhì)存在形式及應用要求   
          
          總之,石英礦石雜質(zhì)的存在形式與含量決定了后期高純石英提純加工的具體工藝,也間接決定了純度的上限。不同標準的高純石英應用在不同的領(lǐng)域,因此也對石英礦、提純工藝提出了更高的要求。
          
          資料來(lái)源:《歐陽(yáng)靜,陳廣,梁力行,等.石英礦物資源的提純及在戰略性新興產(chǎn)業(yè)中的應用技術(shù)分析[J].礦產(chǎn)保護與利用,2021(06):35-45》,由【粉體技術(shù)網(wǎng)】編輯整理,轉載請注明出處!
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