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| 一種便捷、高效提高氧化石墨層間距的方法 |
| 來源： 更新時間：2013-06-12 12:14:29 瀏覽次數： |
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專利名稱：一種便捷、高效提高氧化石墨層間距的方法
專利持有人：
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內容摘要：發明人：徐志偉，陳磊，張瑤瑤，郭啟微，陳光偉，王春紅，錢曉明申請人：天津工業大學申請號：CN201210096806.6 一種便捷、高效提高氧化石墨層間距的方法。其是將氧化石墨置于60Co的輻照源室內，然后在輻照劑量率為0.6×103Gy/h～6×103Gy/h，... |
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發明人：徐志偉，陳磊，張瑤瑤，郭啟微，陳光偉，王春紅，錢曉明
申請人：天津工業大學
申請號：CN201210096806.6
一種便捷、高效提高氧化石墨層間距的方法。其是將氧化石墨置于60Co的輻照源室內，然后在輻照劑量率為0.6×103Gy/h～6×103Gy/h，輻照劑量為1×105Gy～2×106Gy的條件下對其進行γ射線輻照，輻照時間為16～3000小時，使氧化石墨的表面剝離而形成石墨烯納米片。本發明方法是利用γ射線粒子能量高、穿透力強的特點，使空氣中的氧氣與氧化石墨的片層發生反應，從而大大提高了氧化石墨的層間距，顯著降低了石墨烯納米片的平均層數，并且所獲得的石墨烯納米片比表面增加，同時顯著提高了超聲處理后石墨烯納米片中單片層的比例，因此可獲得高品質功能化石墨烯材料。另外，本發明方法還具有操作過程簡單、成本低廉，綠色環保等優點，并可實現工業化批量生產。
http://www.roanjohns.com/uploadfile/2013/0923/20130923085642266.pdf
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